X射(she)線(xian)衍射(she)儀可(ke)(ke)在常規環境中無損(sun)分(fen)(fen)析(xi)樣品，進行(xing)物質的定性分(fen)(fen)析(xi)、晶格常數確定和應力測定等。并且，可(ke)(ke)通過峰面積計算進行(xing)定量分(fen)(fen)析(xi)。可(ke)(ke)通過半高寬、峰形等進行(xing)粒徑/結晶度/精密Ｘ射(she)線(xian)結構解析(xi)等各種分(fen)(fen)析(xi)。

     德國(guo)HUBER公(gong)司生產(chan)的G670快速高精多晶X射線粉末衍射儀，精度高(gao)，可定制(zhi)化程度高(gao)，ji大(da)限度地豐富了X射線衍射儀的使用場景，擴大了使用范圍，該系統搭配不同的配置可分別實現“超微量、超高壓、超高溫、超低溫、單晶多晶測量”等全部研究需求。

以下(xia)將詳細為您介紹G670快速高精多晶X射線粉末衍射儀的特點(dian)

核心結構

Guinier Camera G670

     Huber G670快(kuai)速高精(jing)X射線粉末衍射儀*以Guinier幾何結構，提供了一種現代圖像板檢測方法(fa)（image plate）。

     在許(xu)多Guinier相機中(zhong)，有著(zhu)(zhu)100多年歷(li)史(shi)的(de)(de)濕法影印技術已(yi)被逐步計數閃爍探(tan)測(ce)(ce)器(qi)和比例探(tan)測(ce)(ce)器(qi)所取代。雖(sui)然這使采(cai)集數字數據成(cheng)為可能，但不(bu)能顯(xian)著(zhu)(zhu)減少測(ce)(ce)量(liang)(liang)時間，測(ce)(ce)量(liang)(liang)時間依舊保持在幾(ji)小(xiao)時到(dao)幾(ji)天(tian)的(de)(de)范圍內。與此不(bu)同的(de)(de)是(shi)，使用Huber的(de)(de)圖像板檢測(ce)(ce)方法，可以在幾(ji)分鐘內獲得所需的(de)(de)數據。

     與傳統(tong)的Guinier相(xiang)機相(xiang)似之處的是它的幾何結構和高分辨(bian)率——Huber G670已然是一款成熟的衍射儀。

成像原理——*的成像板技術

 由聚酯制成(cheng)的(de)柔性(xing)安裝箔(bo)上涂有(you)由晶體(ti)組成(cheng)的(de)均勻粉末的(de)發(fa)(fa)光存儲材(cai)料(liao)(顆粒大小約0.005mm)，即(ji)由氟化鋇(bei)和(he)微(wei)量二價銪(you)組成(cheng)的(de)光刺激熒光粉作為發(fa)(fa)光中心(BaFBr:Eu2+)。

圖(tu)像存儲(chu)箔片(pian)位于Guinier相機670中，敏感面向內，jing確地對準在半徑為90mm的焦圓上。它的曝光方式與以前使用的濕法影印技術相同。之后，在約5秒的時間內，用垂直的線性紅色二極管產生的激光束掃描成像板。

由此產生的藍色光激(ji)勵發光(PSL)從受X射線照射的區域發出(chu)，在掃描過(guo)程中由光電倍增管放大(da)，然后記(ji)錄。初始的模擬信(xin)號通過(guo)一個16位的A /D轉換(huan)器轉換(huan)成(cheng)數(shu)字計數(shu)。

通過(guo)白色鹵素燈，可(ke)以在(zai)10秒內擦除已儲存的圖像結構，并(bing)支持下一次(ci)成像。

除(chu)圖(tu)像存儲箔外，670相機的外殼還包括帶有光(guang)電(dian)倍增管和前置放大器的激光(guang)記(ji)錄(lu)單元，以及鹵(lu)素擦(ca)除(chu)燈。

這(zhe)款小巧的(de)Guinier粉末衍射儀集成了傳統的(de)濕(shi)法影(ying)印技術的(de)高(gao)分辨(bian)率，及圖像板檢測(ce)技術的(de)高(gao)靈敏度。因此，它能(neng)夠在(zai)盡可(ke)能(neng)短的(de)時間內提供數字粉末衍射圖，然(ran)后可(ke)以通過Rietveld分析或類似(si)的(de)方法進一(yi)步(bu)處理。

所提供(gong)的(de)測量軟件(jian)在MS-Windows下運行(xing)，并將多可(ke)達20001個計數點的(de)衍(yan)射圖文件(jian)存(cun)儲成各(ge)類標準文件(jian)格式。

組件

多種多樣的試樣架

平板粉(fen)末(mo)(mo)試樣架670.1是(shi)在(zai)正常(chang)實(shi)驗室條件下測定粉(fen)末(mo)(mo)試樣的標(biao)配。 在(zai)高光強(qiang)下，它可(ke)以產生非常(chang)精細(xi)的理想峰。

將粉末固(gu)定(ding)在(zai)(zai)一個尺(chi)寸(cun)為(wei)10 x 20mm，6μm厚(hou)的(de)(de)聚酯箔上。X射線以45°的(de)(de)角度不對(dui)稱地穿透樣品表面，同(tong)時(shi)樣品在(zai)(zai)其平面內以約1Hz的(de)(de)振(zhen)(zhen)幅振(zhen)(zhen)蕩，振(zhen)(zhen)幅為(wei)10mm。此法消(xiao)除了由(you)不同(tong)晶向的(de)(de)粉末顆粒引起的(de)(de)強度變(bian)化。

Sample Changer 670.120

標(biao)準(zhun)平板粉末試(shi)樣(yang)架670.1可換為多通道(dao)粉末樣(yang)品試(shi)樣(yang)架。配(pei)合非對稱(cheng)的X射線，可裝載6份不同(tong)樣(yang)品。同(tong)時配(pei)備另一定(ding)位器(qi)，方(fang)便客戶測樣(yang)的同(tong)時進行制樣(yang)工作。經過步進電機的驅動，將樣(yang)品移動到測量位置，并在(zai)該位置附(fu)近(jin)提供連續的振蕩，類似于單樣(yang)品試(shi)樣(yang)架，運行頻(pin)率約為1Hz。

多(duo)樣(yang)品定位(wei)(wei)器可反復拆(chai)卸且操作簡(jian)單(dan)，位(wei)(wei)置(zhi)偏差(cha)不(bu)超(chao)過0.01mm，因(yin)此小化了由(you)于樣(yang)品位(wei)(wei)置(zhi)不(bu)同帶來的誤差(cha)。電子硬件系(xi)統(tong)適配G670控制(zhi)系(xi)統(tong)，所有定位(wei)(wei)動作均(jun)由(you)標準的G670程序控制(zhi)。

 基準調整裝置

Adjustment Base 601

對于除670.6外的所有相機配置(zhi)，都需要基準調整裝置(zhi)601。

它包(bao)括所有用于調(diao)整相機位(wei)置(zhi)的工具和Guinier單色(se)儀611。

根據(ju)X射線的(de)輻射波長，可使用不同(tong)的(de)晶體615/616，見單獨的(de)產品冊。由于空間原因(yin)，激光加熱爐(lu)670.31和低溫器件670.4，需要使用616系列晶體。

單色器

Monochromator 611

Gunier單色器611有一個用于(yu)聚焦Johansson-Guinier型單色器晶(jing)體(ti)的(de)底(di)座。安裝在(zai)U形金屬框架(jia)內，因此(ci)可以很(hen)容易(yi)地插入和更換。

多功能(neng)外殼(ke)具(ju)有高(gao)定位自由度，這對微(wei)調在X射線管光束路徑上的晶體至關(guan)重要(yao)。

為了jing確限制x射線束的橫截面，設計了多種孔徑。

單色儀(yi)主要用于細聚焦X射線管( 0.4x8mm)的線路側，*濾除Kα2 。

Monochromator Crystals 615/616

Guinier 晶體(ti)單色(se)器615/616參數

Huber#Anode Kα1【A】 Cryst.hkl2θ【°】

附件：

單色鏡

平面試樣(yang)旋轉裝置(zhi)

X射線發生器

閉式循環(huan)冷水機

帶(dai)電(dian)源的X射線安全盒

適配670.31 CCD 的商用高溫計(ji)

適配670.2/5的目鏡照相機

G670的(de)主(zhu)要技術參數：

計數(shu)點(dian)(max.)：20001

2-Theta范圍 (max.) ：100°

2-Theta 步長：0.005°

A/D 分辨率：16 Bit

動態范(fan)圍(multi-scan)：~200000 counts

讀(du)出(chu)時間：<5 sec

擦除時間：10 sec

焦圓半徑：90 mm.

硬件要求：

X射線光(guang)源：0.4*8 mm2垂直細(xi)線焦點

臺面以(yi)上橫梁高(gao)度：~275mm

桌面面積：~600*500mm2

19”機架，3個高度(du)單位

該系(xi)統以(yi)Guinier高分辨率相機為主(zhu)要(yao)核心(xin)組(zu)件(jian)，通過在此基礎上搭建(jian)不(bu)同配置組(zu)件(jian)的系(xi)統，以(yi)響應客戶(hu)對不(bu)同條件(jian)下粉末試(shi)樣進(jin)行高精度測量的需求。